- 技術服務與推廣
- 先進元件製程服務平台
- 專利技術
- 產學合作
- 奈米元件創新產學聯盟簡介
- 奈米產業高階人才養成計畫
奈米產業高階人才養成計畫申請書 »
奈米產業高階人才養成計畫作業流程 »
年度成果報告格式 »
一、 | 目的 | |||
國家奈米元件實驗室(以下簡稱NDL)為引導教授群共同從事前瞻奈米元件技術開發,培育產業界所需中高階研究人才,並建立與學研界密切的聯結機制,加速研究進程,維持台灣在高科技產業的競爭優勢,特訂定本要點。 | ||||
二、 | 合作對象 | |||
國內各公私立大專院校教授研究群。 | ||||
三、 | 申請方式 | |||
1. | 每年於本實驗室網站公告申請方式及研究項目。 | |||
2. | 欲參加計畫的合作對象,須依NDL所訂的研究項目撰寫「奈米產業高階人才養成計畫申請書」(格式如附件一),申請期限依當年度NDL公告。 | |||
3. | 配合NDL年度計畫規劃,計畫採一年一審,作業流程請見附件二。 | |||
4. | 於國內外擔任教學、研究專任職務在五年以內或獲博士學位後五年以內之專任教學、研究人員,得以隨到隨審的方式申請本計畫。 | |||
四、 | 計畫類型 | |||
1. | 研究計畫屬連續性計畫者,可以多年期計畫提出申請,但以三年為上限,並需分年填列研究內容及製程需求。 | |||
2. | 鼓勵跨領域或跨校的整合型研究計畫,唯須配合NDL規劃推動的重點研究項目。 | |||
五、 | 審查方式 | |||
1. | 審查方式:由NDL成立專案審查委員會進行審查。專案審查委員會由NDL主任擔任主任委員,委員五至十人,NDL副主任為當然委員,餘由主任委員指派;如有外審委員得依規定支給出席費及交通費。 | |||
2. | 審查重點:研究內容與NDL年度計畫的相關性、計畫主題的重要性與創新性、研究方法的可行性、計畫主持人研究表現與執行能力、預期完成的項目、近三年研究績效與成果及投入研究生的合理性。 | |||
3. | 預核的多年期計畫於各年度須繳交年度成果報告(格式如附件三),經審核確認計畫的執行成效及預期成果後,始得進行下一年度的計畫。 | |||
4. | 審查作業期間:自申請案截止收件之次日起審查完成後核定通知。 | |||
六、 | 執行方式 | |||
1. | 計畫執行期限:每年一月一日起至十二月三十一日止。 | |||
2. | 研究群須與NDL形成共同開發團隊並共同指導學生進行研究計畫。 | |||
3. | NDL提供計畫執行期間NDL既有之氣體及化學品等各項耗材、設備及設備使用。 | |||
4. | 每個年度核准的計畫數依NDL當年度的研究規劃及執行狀況而定。 | |||
七、 | 權利與義務 計畫執行期間,參與團隊至NDL進行研究或從事實驗者 |
|||
權利: | ||||
(1) | NDL提供計畫所需之製程 | |||
(2) | 可免費申請NDL所開設的相關教育訓練課程 | |||
(3) | NDL提供學生研習室 | |||
(4) | 可申請使用NDL會議室 | |||
義務: | ||||
(1) | 每年更新會員基本資料、填寫設備使用滿意度調查問卷並遵守儀器設備使用規範及工安規定。 | |||
(2) | 參與研究的學生如需自行操作儀器,皆須遵守本實驗室的相關規定;唯為增加學習彈性,凡相關系所碩士畢業、並具2年以上半導體領域相關工作經驗、且修習博士學位者,可檢附工作證明及學生證影本,向本實驗室申請抵免訓練班及見習班。 | |||
(3) | 須配合繳交各類績效及報告。 | |||
(4) | 計畫結束後須繳交成果報告並投稿SNDT(奈米元件技術研討會)發表執行成果。 | |||
(5) | 至本實驗室對外服務系統線上填寫論文發表、人才培育、專利技轉、其它獲獎等研究成果。 | |||
(6) | 合作發表之論文須致謝國家奈米元件實驗室。 | |||
(7) | 利用NDL設備製作之試片,其相關製程參數與物性、化性及光電特性等數據,經雙方同意後得留存相關檔案於NDL,以供雙方參考備查。 | |||
(8) | 專利分配與技術轉移,依科技部、財團法人國家實驗研究院相關規定辦理。 | |||
聯絡窗口:謝佩玲 小姐
聯絡電話:03-5726100轉7724
108年計畫申請期限:自即日起至107/11/30止,申請書電子檔請逕寄聯絡窗口