• 晶片系統收費標準
  • 新竹機台收費標準
  • 台南機台收費標準
  • 高頻技術機台收費標準
  • 晶片系統量測收費標準
  • 檢測分析機台收費標準
  • 高頻量測收費標準
  • 奈米與功率元件量測收費標準
  • 材料分析收費標準
  • 量測服務聯絡窗口

設備名稱 收費標準
鋁線打線機 500 (元/4小時)
顯微照相 500 (元/4小時)
示波器 (立肯 LT584) 500 (元/4小時)
LCR 電表 500 (元/4小時)
電路板雕刻機 500 (元/4小時)
半導體參數分析儀 500 (元/4小時)
示波器 (LeCroy Lc564A) 500 (元/4小時)
可程式恆溫恆濕試驗系統 500 (元/4小時)
SOC 晶片測試 4,500 (元/1小時)
MEMS 系統 1,800 (元/1小時)
Laser 切割系統 300 (元/1小時)
類比量測系統 2,000 (元/1小時)
電源管理晶片量測系統 800 (元/1小時)
備註:
(一) 產研界依單位定價收費。
(二) 學界自費優惠:依單位定價之 80% 收費,即單位定價 x 80%。
(三) 學界部分負擔優惠:依學界自費之 10% 收費,即單位定價 x 80% x 10%。
(四) 教育性晶片優惠:以 100% 記帳方式處理,無另收費。
(五) 新進教師優惠:服務未滿兩年之新進教師享有優惠服務,即以 100% 記帳方式處理,無另收費。
(六) 院內單位優惠:本院(財團法人國家實驗研究院)院內單位以 100% 記帳方式處理,無另收費。

 

 
學界自行操作:以訂價*10%收費。
學界(含中研院)委託代工:技術服務費以學界訂價*10%收費,材料費100%收費。
業界自行操作:不開放。
業界委託代工:以業界訂價收費。
自行操作預約/委託服務申請 請至: 製程與量測分析服務系統MES系統申請
 

新竹機台收費標準
機台編號 設備名稱 自行操作 委託代工
開機費(元/次) 使用費
開機費
(元/次)
使用費
(元/分)
學界
(元/分)
業界
(元/時)
CF-L02A Leica e-beam電子束直寫系統-光罩製作服務 不開放 0 217 433
元/分
Leica e-beam電子束直寫系統-光罩製作服務 光罩圖案佈局-審核 不開放 0 900
元/時
900
光罩圖案佈局-修改 不開放 0 1,300
元/時
1,300
石英光罩製作必須額外支付材料費 不開放 4,000
元/片
玻璃罩製作必須額外支付材料費 不開放 1,000
元/片
CF-L02W Leica e-beam電子束直寫系統 0 167 0 217 26,000
CF-L05 I-line stepper-I-line 光學步進機 0 200 30,000
(業界)
250 27,500
CF-L06 In-line SEM-線上電子顯微鏡 0 1
元/秒
20,000
(業界)
178 13,200
CF-L09 Track-自動化光阻塗佈及顯影系統 0 2
元/秒
20,000
(業界)
203 14,150
CF-L12 ELS7500電子束直寫微影系統 0 35 20,000
(業界)
52 6,000
CF-L13 FIB-離子束電子束雙束系統 委託代工服務 不開放 0 4,500
元/時
7,000
委託TEM樣品製備 不開放 0 10,500
元/個
15,000
元/個
CF-L14 奈米壓印機(Nanoimprint) 0 0.5
元/秒
不開放
CF-L16 S9260A線上顯微鏡(S926A In-Line SEM) 不開放 0 223 223
元/分
CF-L17 阻劑塗佈及顯影系統 ACT8 (TRACK ACT8) 不開放 0 244 244
元/分
CF-L18 聚焦電子束系統 (Focus Electron Beam System)   不開放 0 405 405
元/分
TEM Sample 委託製備 不開放 0 12,500
元/個
17,000
元/個
CF-L19 可變形束電子束曝光機 (Shaped e-beam direct write system) 不開放 0 474 474
元/分
CF-E01 TCP 9400多晶矽乾式蝕刻機(TCP POLY-SILICON ETCHER) 0 25 0 91 6,000
CF-E04 乾式光阻去除機(FUSION OZONE ASHER) 0 17 0 67 4,800
CF-E06 表面輪廓量測儀(SURFACE PROFILER) 0 19 1,000 37 3,240
CF-E07 Mattson ASPEN Asher-乾式光阻去除機 0 42 0 79 5,500
CF-E08 Lam TCP9600 metal etcher金屬乾式蝕刻機 0 25 0 91 6,000
CF-E09 ICP Etcher-感應耦合式電漿蝕刻系統 業界:
2,000
(暫不開放自行操作)
71 4,000
(業界)
100 7,000
CF-E10 8吋前段多晶矽及介電層乾式蝕刻機台 不開放 0 250 250
元/分
CF-E11 8吋後段金屬層與金屬層間引洞蝕刻機 不開放 0 250 250
元/分
CF-E12 多功能後段蝕刻機 0 88 0 113 169
元/分
CF-T02 多功能真空濺鍍系統(SPUTTERING) 0 26 0 2,400
元/時
2,400
CF-T03 水平爐管
Horizontal Furnace
 
T01 Poly Si 0 0.3
元/秒
0 1,000
元/時
1,000
T02 Nitride 0 0.5
元/秒
0 2,000
元/時
2,000
T03 TEOS 0 0.6
元/秒
0 2,500
元/時
2,500
T04 Dope-AMM 0 0.3
元/秒
0 1,100
元/時
1,100
T05 Wet Oxide 0 20 0 20 1,200
T05、6、7 Dry Oxide 0 20 0 1,200
元/時
1,200
T06 Drive-In 0 20 0 20 1,200
T07 P+ Anneal 0 20 0 20 1,700
T08 H2 Sinter 0 0.5
元/秒
0 2,000
元/時
2,000
CF-T06 高密度電漿化學氣相沉積系統(HDPCVD) 0 24 1,000 48 5,350
CF-T12 Spin coater Low-k材料旋塗機 0 0.1 
元/秒
0 360
元/時
360
CF-T13 垂直爐管 
Vertical furnace
Dry Oxide 不開放 0 27 1,500
Wet Oxide 不開放 0 27 1,600
Insitu Doped Poly 不開放 0 27 2,000
CF-T17 後段真空退火爐管Backend Vacuum Anneal Furnace 1,000 25 1,000 52 4,090
CF-T19 Oxford PECVD電漿輔助化學氣相沈積系統 0 43 1,000 75 5,500
CF-T21 電子束度蒸度系統 E-gun system 2,000 13 3,000 30 2,000
CF-T23 FSE Cluster PVD / 多層金屬濺鍍系統 4,000(業界) 77 4,000
(業界)
110 8,000
CF-T24 低溫碳奈米管化學氣相沈積系統 0 58 不開放
CF-T25 WCVD/鎢金屬化學氣相沉積系統 學界:
1,000
業界:
4,000
(暫不開放自行操作)
102 學界:
1,000
業界:
4,000
139 9,000
CF-T26 後段化學氣相沉積系統 -- 不開放 0 117 117
元/分
CF-T27 RTP-急速升溫退火系統 -- 不開放 0 99 99
元/分
CF-T28 8吋高密度電漿化學氣相沉積系統 不開放 0 179 179
元/分
CF-T29 8吋金屬物理氣相沉積系統 (8吋PVD) 不開放 0 208 208
元/分
CF-C01 CMP化學機械研磨系統 0 73 1,000 106 6,940
CF-C02 Post-cleaner Process化學機械拋光後清洗機 0 25 1,000 76 4,550
CF-C05 前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench 爐管前-H2SO4 0 60 0 89 6,100
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench 爐管前-HCL 0 60 0 89 6,100
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench 爐管前-DHF 0 60 0 89 6,100
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench 爐管前-NH4OH 0 60 0 89 6,100
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench 光阻區-H2SO4 #1 0 60 0 89 6,100
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench 光阻區-H2SO4 #2 0 60 0 89 6,100
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench 光阻區 B.O.E.7:1 0 60 0 89 6,100
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench 光阻區-金屬層去光阻 Metal P.R.Stripping 0 60 0 89 7,250
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench H3PO4(8吋) 0 60 0 89 6,100
前段化學清洗蝕刻工作站front-end wet bench B.O.E.7:1 (8吋) 0 60 0 89 6,100
CF-C06 後段化學清洗蝕刻工作站 H2SO4 0 60 0 89 6,100
後段化學清洗蝕刻工作站 B.O.E.7:1 0 60 0 89 6,100
CF-C08 8英吋化學機械研磨系統 學界:
1,500
業界:
4,000
(暫不開放自行操作)
83 學界:
1,500
業界:
5,000
133 9,000
CF-C09 8吋後段化學清洗蝕刻工作站 0 80 0 97 168
元/分
CF-C10 8吋前段化學清洗蝕刻工作站 0 99 0 124 124
元/分
CF-S02 KORONA RTP 800急速升溫退火爐 0 18 2,000 52 3,925
CF-S05 iStar 12"高電流離子佈植機 0 205
(暫不開放)
0 240 510
元/分
CF-S06 中電流離子佈植機Implantation (Medium Cruuent) factor=0.5,學界 不開放 0 4,130
元/時
--
factor=1.0,業界 不開放 0 -- 5,500
CF-S07 雷射製程系統 不開放 1,000 41 4,000
CF-M02 Nanoindentor奈米壓痕儀 1,500 10 1,500 24 1,500
CF-M09 n&k-薄膜測厚儀 0 0.3 
元/秒
0 1,200
元/時
1,200
CF-M11 雷射刻號機 0 58 0 98 6,048
CF-M13 應力量測儀 Stress Measur. System 0 23 1,000 48 3,160
CF-M15 四點探針電阻量測系統4-point probe 0 0.2 
元/秒
0 800
元/時
800
CF-M17 多功能電性量測系統 0 5 不開放
CF-M18 紫外光可見光光譜儀UV-Vis 0 0.15 
元/秒
0 600
元/時
600
CF-M19 金屬膜四點探針量測儀 Metal 4 point probe 0 0.4 
元/秒
0 1,800
元/時
1,800
CF-M20 薄膜附著力量測系統Adhesion tester 業界(with ceramics) -- 0 -- 5,688
學界(without ceramics) 0 27 0 46 2,808
CF-M23 光學折射儀NK1500 0 50 0 67 4,500
CF-M24 表面污染分析儀 Surfscan 0 48 0 73 5,000
CF-M25 M2000_Ellipsometer
橢圓測厚儀
0 67 0 100 100
元/分
CF-M26 全反射螢光光譜儀 0 87 0 112 168
元/分
CF-M28 WYKO 白光干涉儀 0 18 0 35 53
元/分
R514 Chem Lab化學實驗室 0 5 不開放
BIO-001 微機電應用實驗室 0 20 不開放 20
元/分
RDT001 ALD原子層沉積系統 不開放 0 209 209
元/分
RDT002 AG-610i快速退火爐 不開放 2,000 53 3,580
RDT003 低溫微波加熱系統 不開放 0 100 100
元/分
RDT004 AW 810M 快速昇溫退火爐 0 18
(一般製程)
2,000 52 66
元/分
2,000 18
(Ge與Hight K)
RDT005 ASM四族磊晶機台   不開放 0 367 367
元/分
材料費 -- 0 8000
元/時
8000
註:委託代工時數未達半小時(30分)者以半小時計。

 

 
學界自行操作:以訂價*10%收費。
學界(含中研院)委託代工:技術服務費以學界訂價*10%收費,材料費100%收費。
業界自行操作:不開放。
業界委託代工:以業界訂價收費。
自行操作預約/委託服務申請 請至: 製程與量測分析服務系統MES系統申請
 

台南機台收費標準
 
機台編號 設備名稱 自行操作 委託代工
開機費(元/次) 使用費
開機費
(元/次)
使用費
(元/分)
學界
(元/分)
業界
(元/時)
SE-001 電漿輔助式化學氣相沈積&感應耦合式蝕刻系統(PECVD&ICP) 0 50 1,000 58 6,000
SE-002 反應式離子蝕刻系統(STS) 0 17 0 42 5,500
SE-003 金屬濺鍍系統(Sputter) 0 22 0 38 2,800
SE-004 金屬薄膜電阻量測儀(M-gauge) 0 34 1,000 50 3,080
SE-005 四點探針電阻量測(four point probe) 0 0.1
元/秒
0 不開放委託操作
SE-006 電子顯微鏡(SEM) 0 19 0 40 2,500
SE-007 薄膜測厚儀(n&k analyzer) 0 0.3
元/秒
0 1,500
元/時
1,500
SE-008 濕式蝕刻清洗系統(Wetbench) 0 20 0 54 3,500
SE-009 自動化光阻塗佈及顯影系統(Track) 0 35 20,000 46 11,500
SE-010 光罩對準曝光系統(Mask aligner) 0 50 20,000 50 14,000
SE-011 射頻濺渡機(RF Sputter) 0 13 0 不開放委託操作
SE-012 高溫及低壓爐管(Oxidation) 0 15 0 29 6,000
SE-012 高溫及低壓爐管(多晶矽) 0 30 0 29 10,000
SE-012 高溫及低壓爐管(退火) 0 15 0 29 6,000
SE-013 光阻去除及濕蝕刻化學槽(Prstrip&wet etching chemical hood) 0 18 0 不開放委託操作
SE-013 光阻去除及濕蝕刻化學槽(有機) 0 18 0 不開放委託操作
SE-014 破片光阻旋轉塗佈機(Spincoater) 0 5 0 不開放委託操作
SE-016 熱蒸鍍機(Thermal coater) 0 11 0 36 3,500
SE-017 光罩對準曝光機(MJB3) 0 6 0 不開放委託操作
SE-019 表面輪廓量測儀(Profile meter) 0 17 1,000 33 2,000
SE-020 鍍金機(Gold Sputter) 0 0.2
元/秒
0 不開放委託操作
SE-021 熱燈絲化學氣相沉積系統 0 30 0 38 38
元/分
SE-022 銅電鍍系統 Cu electroplating 0 0.97
元/秒
0 3,450
元/時
3,450
SE-C01 太陽光模擬器與IV量測系統(Science Tech 150W) 0 15 0 24 5,000
SE-C02 全波段入射光子轉換效率光度計(IPCE) 0 27 0 43 3,500
SE-C03 表面修飾製程塗佈系統 0 0.1
元/秒
0 不開放委託操作
SE-C04 紫外光/可見光 光譜儀(UV-VIS-NIR Spectrophotometer) 0 20 0 36 2,340
SE-C05 螢光光譜儀(photoluminescence) 0 20 0 37 2,340
SE-C06 直流量測系統(HP4145B) 0 7 600 55 3,400
SE-C08 電子槍蒸鍍系統 0 40 0 50 50
元/分
SE-C10 氮氣手套箱及有機金屬蒸鍍系統 0 21 0 29 29
元/分
SE-C11 快速退火系統(RTP system) 0 17 0 25 25
元/分
SE-C12 X光螢光分析儀 0 23 0 40 40
元/分
SE-C13 複合薄膜多腔體濺鍍系統 (Cluster RF Sputter) 0 30 0 40 40
元/分
註:委託代工時數未達半小時(30分)者以半小時計。

 

 
學界自行操作:以訂價*10%收費。
學界(含中研院)委託代工:技術服務費以學界訂價*10%收費,材料費100%收費。
業界自行操作:不開放。
業界委託代工:以業界訂價收費。

高頻技術組機台收費標準
 
設備編號 設備名稱 收費標準
自行操作
收費標準
(元/秒)
委託代工
收費標準
備註
HF-001 奈米元件參數量測系統 0.36 5,000
(元/小時)
5,000
非標準量測組態方需加計此材料費用
HF-003 50 GHz元件高頻S參數量測系統 0.7 5,500
(元/小時)
HF-004 高頻雜訊參數量測系統 1-18 GHz 0.84 6,000
(元/小時)
18-65 GHz 不開放 7,000
(元/小時)
HF-005 高頻功率參數量測系統 0.98 6,500
(元/小時)
HF-006 高頻電路量測系統 67 GHz以下 0.98 6,000
(元/小時)
67 GHz以上 不開放 7,000
(元/小時)
HF-007 元件低頻雜訊參數量測系統 0.28 4,000
(元/小時)
HF-009 110 GHz元件高頻S參數量測系統 不開放 7,000
(元/小時)
HF-010 非線性向量網路分析量測系統 不開放 7,000
(元/小時)
HF-011 IV & CV 電性量測系統 0.2 不開放  
HF-012 功率元件量測系統 不開放 85
(元/分)
 
HF-013 毫米波雜訊/功率參數量測系統 不開放 120
(元/分)
 
HF-014 220GHz元件高頻S參數量測系統 不開放 120
(元/分)
 
註:委託代工時數未達半小時(30分)者以半小時計。
註:一般機台委託代工時數需視實際狀況加半小時(例如標準校正)至2小時(例如Waveguide型態架設)不等之前置作業時間。惟Focus與Maury之高頻雜訊/功率量測、140 GHz以上高頻電路量測、與其它客製化量測,則需增加最長6小時之前置作業時間(例如:配合量測功率或頻率之掃描範圍大小與點數疏密程度,所需客製化架設及校正之前置作業時間將會有所不同),前置作業時間會於收到委託申請時進行估算並告知客戶。

 

晶片系統量測收費標準

 
學界自行操作:以訂價*10%收費。
學界(含中研院)委託代工:技術服務費以學界訂價*10%收費,材料費100%收費。
業界自行操作:不開放。
業界委託代工:以業界訂價收費。
TAF-ISO17025證書費: 學界 5000元/份;業界 10,000 元/份

檢測分析組機台收費標準
 
設備編號 設備名稱 收費標準
自行操作
收費標準
(元/秒)
委託代工
收費標準
(元/小時)
備註
NM-001 場發射掃描式電子顯微鏡 (FESEM) 0.4 2,550  
NM-002 大試片掃描探針顯微鏡(8吋晶片) (AFM) 0.45 3,000 1,700
高解析AFM才需增加材料費
TAF-ISO17025認證 - 1.線距量測 ; 2.階高量測 --
NM-004 歐傑電子顯微鏡 (AES) -- 5,455  
NM-005 離子減薄機 0.1 --  
NM-006 場發射穿透式電子顯微鏡 (TEM) 1.5 10,800  
TAF-ISO17025認證 - 1.線距量測 --
NM-007 原子力顯微鏡系統
(破片)
C-AFM 功能 0.6 4,000 2,700
需求導電金屬探針才需額外增加材料費
AFM 功能 3,000 1,700
高解析AFM才需增加材料費
NM-008 X光薄膜繞射儀 (XRD) θ-2θ scan / GIXRD 0.6 2,500  
TAF-ISO17025認證 - 1.相鑑定 --  
NM-009 熱場發射掃描式電子顯微鏡 (TFSEM) 0.6 3,500  
TAF-ISO17025認證 - 1.線距量測 ; 2.表面影像觀測 --
液態試片影像觀測
NM-010 試片製備--Silicon 製程 Cross-section 0.2 15,000/片  
 
試片製備--Sapphire 製程 Cross-section 0.2 20,000/片  
 
試片製備--其它製程 0.2 依材料特性估價  
NM-011 低溫強磁場系統(LTHM VTI) -- 1,500
最低使用時數4
(小時/樣品數)
 
NM-012 傅氐紅外線光譜(FTIR) -- 500元/次
+1,500元/小時
 
NM-013 二次離子質譜儀(SIMS) -- 學界:5,000
業界:11,000/單位
 
TAF-ISO17025認證 - 1.硼元素縱深分析
NM-014 電性掃描探針顯微鏡D3100 32
元/分
AFM:50
電性掃描:67
(元/分)
 
NM-015 X光光電子能譜儀 100
元/分
120
元/分
 
TAF-ISO17025認證 - 1.表面定性分析 --
NM-016 微觀富氏轉換紅外線儀(Micro-FTIR) 18
元/分
學界:25元/分
業界:35元/分
 
註:委託代工時數未達半小時(30分)者以半小時計。

 

高頻電路與天線量測儀器收費標準
 
 
設備名稱 收費標準
20GHz高頻參數量測系統 On PCB 2,100 (元/每小時)
On Wafer 3,000 (元/每小時)
67GHz高頻參數量測系統 On PCB 3,600 (元/每小時)
On Wafer 4,500 (元/每小時)
信號源參數量測系統 On PCB 2,100 (元/每小時)
On Wafer 3,000 (元/每小時)
調變信號量測(20GHz量測系統) On PCB 2,100 (元/每小時)
On Wafer 3,000 (元/每小時)
調變信號量測(67GHz量測系統) On PCB 2,100 (元/每小時)
On Wafer 3,000 (元/每小時)
S參數/X參數/射頻積體電路/負載拉移量測服務 On PCB 2,100 (元/每小時)
On Wafer 3,000 (元/每小時)
0.8GHz~18GHz天線量測系統 1,500 (元/每小時)
註:
(一) 產研界依單位定價收費。
(二) 學界自費優惠:依單位定價之 80% 收費,即單位定價 x 80%。
(三) 學界部分負擔優惠:依學界自費之 10% 收費,即單位定價 x 80% x 10%。
(四) 教育性晶片優惠:以 100% 記帳方式處理,無另收費。
(五) 新進教師優惠:服務未滿兩年之新進教師享有優惠服務,即以 100% 記帳方式處理,無另收費。
(六) 院內單位優惠:本院(財團法人國家實驗研究院)院內單位以 100% 記帳方式處理,無另收費。

 

客製化高頻電路量測儀器收費標準
 
學界自行操作:以訂價*10%收費。
學界(含中研院)委託代工:技術服務費以學界訂價*10%收費,材料費100%收費。
業界自行操作:不開放。
業界委託代工:以業界訂價收費。
自行操作預約/委託服務申請 請至: 製程與量測分析服務系統MES系統申請
 
設備編號 設備名稱 收費標準
自行操作
收費標準
(元/秒)
委託代工
收費標準
備註
HF-006 高頻電路量測系統 67 GHz以下 0.98 6,000
(元/小時)
5,000
非標準量測組態方需加計此材料費用
67 GHz以上 不開放 7,000
(元/小時)
註:委託代工時數未達半小時(30分)者以半小時計。
註:一般機台委託代工時數需視實際狀況加半小時(例如標準校正)至2小時(例如Waveguide型態架設)不等之前置作業時間。惟Focus與Maury之高頻雜訊/功率量測、140 GHz以上高頻電路量測、與其它客製化量測,則需增加最長6小時之前置作業時間(例如:配合量測功率或頻率之掃描範圍大小與點數疏密程度,所需客製化架設及校正之前置作業時間將會有所不同),前置作業時間會於收到委託申請時進行估算並告知客戶。

 

高頻元件量測儀器收費標準
 
學界自行操作:以訂價*10%收費。
學界(含中研院)委託代工:技術服務費以學界訂價*10%收費,材料費100%收費。
業界自行操作:不開放。
業界委託代工:以業界訂價收費。
自行操作預約/委託服務申請 委託服務申請請至: 製程與量測分析服務系統MES系統申請
 
設備編號 設備名稱 收費標準
自行操作
收費標準
(元/秒)
委託代工
收費標準
備註
HF-003 50 GHz元件高頻S參數量測系統 0.7 5,500
(元/小時)
5,000
非標準量測組態方需加計此材料費用
HF-004 高頻雜訊參數量測系統 1-18 GHz 0.84 6,000
(元/小時)
18-65 GHz 不開放 7,000
(元/小時)
HF-005 高頻功率參數量測系統 0.98 6,500
(元/小時)
HF-009 110 GHz元件高頻S參數量測系統 不開放 7,000
(元/小時)
HF-010 非線性向量網路分析量測系統 不開放 7,000
(元/小時)
HF-013 毫米波雜訊/功率參數量測系統 不開放 120
(元/分)
 
HF-014 220GHz元件高頻S參數量測系統 不開放 120
(元/分)
 
註:委託代工時數未達半小時(30分)者以半小時計。
註:一般機台委託代工時數需視實際狀況加半小時(例如標準校正)至2小時(例如Waveguide型態架設)不等之前置作業時間。惟Focus與Maury之高頻雜訊/功率量測、140 GHz以上高頻電路量測、與其它客製化量測,則需增加最長6小時之前置作業時間(例如:配合量測功率或頻率之掃描範圍大小與點數疏密程度,所需客製化架設及校正之前置作業時間將會有所不同),前置作業時間會於收到委託申請時進行估算並告知客戶。

 

奈米與功率元件儀器收費標準
 
學界自行操作:以訂價*10%收費。
學界(含中研院)委託代工:技術服務費以學界訂價*10%收費,材料費100%收費。
業界自行操作:不開放。
業界委託代工:以業界訂價收費。
自行操作預約/委託服務申請 請至: 製程與量測分析服務系統MES系統申請
 
設備編號 設備名稱 收費標準
自行操作
收費標準
(元/秒)
委託代工
收費標準
備註
HF-001 奈米元件參數量測系統 0.36 5,000
(元/小時)
5,000
非標準量測組態方需加計此材料費用
HF-007 元件低頻雜訊參數量測系統 0.28 4,000
(元/小時)
HF-011 IV & CV 電性量測系統 0.2 不開放  
HF-012 功率元件量測系統 不開放 85
(元/分)
 
註:委託代工時數未達半小時(30分)者以半小時計。
註:一般機台委託代工時數需視實際狀況加半小時(例如標準校正)至2小時(例如Waveguide型態架設)不等之前置作業時間。惟Focus與Maury之高頻雜訊/功率量測、140 GHz以上高頻電路量測、與其它客製化量測,則需增加最長6小時之前置作業時間(例如:配合量測功率或頻率之掃描範圍大小與點數疏密程度,所需客製化架設及校正之前置作業時間將會有所不同),前置作業時間會於收到委託申請時進行估算並告知客戶。

 

材料分析儀器收費標準
 
學界自行操作:以訂價*10%收費。
學界(含中研院)委託代工:技術服務費以學界訂價*10%收費,材料費100%收費。
業界自行操作:不開放。
業界委託代工:以業界訂價收費。
TAF-ISO17025證書費: 學界 5000元/份;業界 10,000 元/份
委託服務申請請至: 製程與量測分析服務系統MES系統申請
 
設備編號 設備名稱 收費標準
自行操作
收費標準
(元/秒)
委託代工
收費標準
(元/小時)
備註
NM-001 場發射掃描式電子顯微鏡 (FESEM) 0.4 2,550  
NM-002 大試片掃描探針顯微鏡(8吋晶片) (AFM) 0.45 3,000 1,700
高解析AFM才需增加材料費
TAF-ISO17025認證 - 1.線距量測 ; 2.階高量測 --
NM-005 離子減薄機 0.1 --  
NM-006 場發射穿透式電子顯微鏡 (TEM) 1.5 10,800  
TAF-ISO17025認證 - 1.線距量測 --
NM-007 原子力顯微鏡系統
(破片)
C-AFM 功能 0.6 4,000 2,700
需求導電金屬探針才需額外增加材料費
AFM 功能 3,000 1,700
高解析AFM才需增加材料費
NM-008 X光薄膜繞射儀 (XRD) θ-2θ scan / GIXRD 0.6 2,500  
TAF-ISO17025認證 - 1.相鑑定 --  
NM-009 熱場發射掃描式電子顯微鏡 (TFSEM) 0.6 3,500  
TAF-ISO17025認證 - 1.線距量測 ; 2.表面影像觀測 --
液態試片影像觀測
NM-010 試片製備--Silicon 製程 Cross-section 0.2 15,000/片  
 
試片製備--Sapphire 製程 Cross-section 0.2 20,000/片  
 
試片製備--其它製程 0.2 依材料特性估價  
NM-011 低溫強磁場系統(LTHM VTI) -- 1,500
最低使用時數4
(小時/樣品數)
 
NM-012 傅氐紅外線光譜(FTIR) -- 500元/次
+1,500元/小時
 
NM-013 二次離子質譜儀(SIMS) -- 學界:5,000
業界:11,000/單位
 
TAF-ISO17025認證 - 1.硼元素縱深分析
NM-014 電性掃描探針顯微鏡D3100 32
元/分
AFM:50
電性掃描:67
(元/分)
 
NM-015 X光光電子能譜儀 100
元/分
120
元/分
 
TAF-ISO17025認證 - 1.表面定性分析 --
NM-016 微觀富氏轉換紅外線儀(Micro-FTIR) 18
元/分
學界:25元/分
業界:35元/分
 
註:委託代工時數未達半小時(30分)者以半小時計。

 

晶片系統量測

項目 聯絡窗口 流程說明
一般性儀器量測 機台負責工程師 委託者上網登入預約系統,填寫預約成功後,經審核通過,會收到預約成功通知確認信。
微機電量測 機台負責工程師 委託者上網登入預約系統,填寫預約成功後,經審核通過,會收到預約成功通知確認信。
類比量測 機台負責工程師 委託者上網登入預約系統,填寫預約成功後,經審核通過,會收到預約成功通知確認信。
SOC晶片測試 機台負責工程師 委託者上網登入預約系統,填寫預約成功後,經審核通過,會收到預約成功通知確認信。


高頻量測

類別 聯絡窗口 流程說明
高頻電路與天線量測 機台負責工程師 委託者上網登入預約系統,線上填寫申請表時,需上傳量測計畫書,經審核通過,會收到預約成功通知確認信,信件內容包含儀器,時間,讓預約者確認預約狀態。
客製化高頻電路量測 機台負責工程師 委託者上網登入對外服務系統與MES系統,填寫委託申請表,經過工程師確認及報價後,委託申請才成立。
※登入會員入口填寫各機台委託申請表
高頻元件量測 機台負責工程師 委託者上網登入對外服務系統與MES系統,填寫委託申請表,經過工程師確認及報價後,委託申請才成立。
※登入會員入口填寫各機台委託申請表


奈米與功率元件量測

聯絡窗口 流程說明
機台負責工程師 委託者上網登入對外服務系統與MES系統,填寫委託申請表,經過工程師確認及報價後,委託申請才成立。
※登入會員入口填寫各機台委託申請表


材料分析

項目 聯絡窗口 流程說明
材料檢測分析
(單機委託)
各機台工程師 委託者上網登入對外服務系統與MES系統,填寫委託申請表,經過工程師確認及報價後,委託申請才成立。
整合性材料檢測 林昆霖 博士
(分機7531)
委託者請直接連絡林昆霖博士討論整合性材料委託服務。
收件登錄 簡秀芳
(分機7610)
委託者將申請表及試片送達服務窗口後;由本實驗室試驗線或工程師進行製程操作;完成後會再送到服務窗口。
取件 簡秀芳 委託者至服務窗口取件時,需於委託申請表上簽名後方可取件。