由於半導體與電子工業的製造技術發展快速，微影技術的開發扮演著重要的角色，微影與光罩製作組的工作與專業能力要求也越趨沉重，本組致力於提供良好的微影圖形定義服務。目前本組有10位優秀同仁，分別有光學微影、電子束微影、阻劑製程與光罩製造等專長，主要任務為對外提供微影製程代工與光罩製造的服務，並維護穩定的設備、製程參數與專業的諮詢，提供使用者專業、友善的使用環境。

在技術開發方面，本組的核心技術開發重點為先進微影技術與相位移光罩製造:
在微影技術方面除了以光學微影開發90 nm 元件所需圖形定義能力之外，以電子束微影為平台的30 nm奈米線製程平台亦已開發完成，提供產學界在先進圖形定義上的服務，下一階段目標為開發15 nm節點的微影能力，期能以領先業界的微影製程能力提供先進製程與元件開發。

鑒於NDL為國內學術界最大提供製造光罩的服務單位，在光罩製作開發上致力於衰減式相位移光罩，期以利用相位移光罩的光學特性解決一般二元式光罩在特徵尺寸下對比不佳的缺點，提升光罩的品質於圖型定義的解析能力。除了上述服務與開發之外，微影與光罩製作組亦提供整合式的合作計畫，包含特殊微影技術應用、新型光阻開發驗證與先進光罩製造開發等服務，歡迎各界利用與指教。