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一、財團法人國家實驗研究院(以下簡稱國研院)國家奈米元件實驗室(以下簡稱本室)為配合國家產業發展需要,推動半導體相關技術,以協助國內產業於創新技術及產品設計開發,特訂定本要點。
二、本要點所稱半導體相關技術,涵蓋下列範圍:
三、本要點所稱產業之對象,係指民間企業、財團法人或團體,對本室之半導體相關技術及研究專長有所需求之產業。(一)基本單元製程
(二)模組與整合製程
(三)物性、化性、電性量測與分析技術
四、本室服務內容分以下二類:
(一)專業技術服務。
(二)儀器及場地設施使用。本室以各種公開方式,主動宣導本室可提供產業界之服務及其他必要注意事項。
五、本室以下列方式提供產業界之專業技術服務:
(一)技術諮詢
(二)教育訓練
(三)委託開發
(四)開放實驗室前項第三款及第四款適用之產業單位,須符合下列規定:
(一)於中華民國境內,依公司法辦理工商登記之本國民營公司或登記有案之法人組織及團體,該公司及機構,係指具有技術開發設計分析之產業。
(二)最近三年內,無政府相關計畫往來之不良紀錄。
六、依第五點第一項第一款及第二款申請本室之技術服務,得以電話或電子郵件方式徵詢本室相關專業人員,或以報名方式參加相關基本訓練課程。第三款及第四款之技術服務推廣,應按本室相關行政流程申請及審查。
七、第五點第一項第一款之技術諮詢,經由網路執行時,不收費,但應以不影響本室正常例行性服務工作為限。
八、本室教育訓練課程,係採全面開放予產業界人士參與,但名額有限時,大學院校教授及研究生優先使用之。
九、本室相關人員得應邀至產業界演講及授課,其差旅及演講相關費用得由廠商支付,受邀人員給予公假。但每週授課時數,須依本室相關規定辦理。
十、本室得接受產業界之委託進行下列之開發計畫:
(一)微影模組
(二)前段技術
(三)後段技術
(四)高頻元件關鍵技術
(五)分析與量測技術
(六)微機電技術
(七)儀器設備驗證前項計畫經費之編列及津貼之支領,須符合本室接受委託合作研究計畫作業要點之規定。
十一、委託開發及技術服務項目中,如需使用本室之儀器設備或場地設施,須於計畫經費項目中編列相關使用費用,收費標準參照第十四點之規定辦理。
十二、第四點所稱之儀器設備或場地設施,係指本室之會議廳室、無塵室及儀器設備等資源。
十三、產業界得在不影響本室正常任務情況下,租借本室會議室及其相關設施或設備舉辦各式活動或說明會,但現場不得有銷售行為,其他相關規定及預約租賃,請參照本室會場及相關設備租借使用注意事項。
十四、產業界得視其本身需要,申請本室委託代工或自行操作精密儀器,其申請方式及使用收費標準,請參照本實驗室儀器設備使用手冊。
十五、本室部分儀器設備受限於無塵室開放等級之規定,無法全面開放使用。限制開放使用之機器型號,請參閱本室儀器設備使用手冊。
十六、產業界為促進研發合作,以平等互惠原則,依正式行政流程與本室簽署相互開放實驗室。
十七、如該計畫為國家重點計畫或政府關鍵性扶植之產業,得透過專案申請報備,經本室主任核可後,得不受第十四點規定之限制。
十八、計畫成果之智慧財產權之歸屬悉依財團法人國家實驗研究院相關規定為處理原則。但合作單位另有要求者,亦得依其相關規定辦理。
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