| 財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室依據政府制訂之「科學技術基本法」與「政府科學技術研究發展成果歸屬及運用辦法」,透過技術移轉將本實驗室之研究成果擴散至產業界,期能提升產業界競爭力。目前本中心提供之專利技術資訊如下。 | |||
| 專利名稱:Method of Manufacturing Embedded Metal-oxide-nitride-oxide-silicon Memory Device內嵌式之金屬氧氮氧矽記憶體元件及製造方法 | ![]() |
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| 專利名稱:奈米級鍺金屬結構的製造方法 | ![]() |
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| 專利名稱:Method for Growing Ge Epitaxial Layer on Patterned Structure with Cyclic Annealing圖形定義與循環式高溫退火處理成長鍺薄膜之方法 | ![]() |
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| 專利名稱:可調式傳輸零點之低雜訊高增益主動式濾波器 | ![]() |
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| 專利名稱:鐵電元件之結構 | ![]() 166577 |
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| 專利名稱:ArF及F2微影術的雙層底抗反射層之結構及製造方法 | ![]() 165755 |
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| 專利名稱:含有晶種層之鐵電元件結構及其製造方法 | ![]() 182605 |
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| 專利名稱:半導體元件之底部抗反射層 | ![]() 178646 |
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| 專利名稱:自我對準之複晶矽間隙壁閘極之單電子電晶體結構及其製造方法 | |||
![]() 186572 |
![]() 6894352B2 |
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| 專利名稱:蕭特基金屬氧化物半導體元件結構 | ![]() 186551 |
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| 專利名稱:一種低反射之相位及穿透率可調之光罩結構 | ![]() I227369 |
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| 專利名稱:電性掃描探針顯微鏡裝置 | ![]() 6975129B2 |
![]() 7193424B2 |
![]() I288248 |
| 專利名稱:具有量子點儲存單元的非揮發性記憶體之結構與製造方法 | ![]() I232582 |
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| 專利名稱:用於射頻與直流量測的元件監視器 |
![]() I228597 |
![]() 7126359 |
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| 專利名稱:雙模態帶通濾波器 | ![]() I244260 |
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| 專利名稱:高混附波抑制之微波濾波器 | ![]() I250688 |
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| 專利名稱:灰階投影式光學裝置 | ![]() I313792 |
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| 專利名稱:近紅外波段飛秒雷射在非晶矽退火的應用方法 | ![]() I245321 |
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| 專利名稱:利用矽酸鉿奈米微粒備製之非揮發性快閃記憶體 | ![]() I245375 |
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| 專利名稱:微遮蔽線與導體背面共面波導之轉換器 | ![]() I249261 |
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| 專利名稱:電性掃描探針顯微鏡之前翼式探針懸臂 | |||
![]() 1610345B1 |
![]() I264542 |
![]() 7210340B2 |
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| 專利名稱:靜電式微機械邏輯閘 | ![]() I288741 |
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| 專利名稱:以【110】單軸拉伸應變提升電子遷移率之Ge nMOSFET 構造 | |||
![]() I290360 |
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| 專利名稱:紫外-可見光光偵測器 | ![]() I287628 |
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| 專利名稱:一種矽基鐵電型記憶體材料 | ![]() I307162 |
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| 專利名稱:相變化記憶體的結構 | ![]() I316302 |
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